Готовый кроссворд по магнитно-резонансной спектроскопии (МРС) - на тему "Источники плазмы"

 
По горизонтали
5. Радиус, характерный для циклотронного вращения заряженной частицы в плоскости перпендикулярной магнитному полю
9. Какой режим тлеющего разряда характеризуется возрастающей вах
10. Характеристика, которая оказывает серьезное влияние на возникновение и развитие разряда в мрс
12. Часть магнетронной распылительной системы, находящаяся под отрицательным потенциалом
14. Устройство, в котором распыление материала происходит за счет бомбардировки поверхности мишени ионами рабочего газа
По вертикали
1. Процесс, происходящий с мишенью в магнетронном распылении на постоянном токе, при котором происходит удаление с осаждаемого материала загрязненного приповерхностного слоя
2. Какой тип магнитной системы обеспечивает условие, когда фвнутр=фвн
3. Частица, благодаря которой зажигается разряд в вакуумной камере
4. При каком режиме тлеющего разряда катод не полностью покрывается свечением
6. Процесс передачи импульса, в котором быстрая частица (чаще всего ион рабочего газа), выбивает атом с поверхности катода
7. Процесс образования ионов из нейтральных атомов и молекул
8. Вид поля, которое позволяет локализовать плазму разряда непосредственно у поверхности мишени
11. Среда, которая образуется вблизи поверхности мишени, в результате разряда в газе
13. Что вызывает совместное действие электрического и магнитного полей, действуя на электрон
14. Важным параметром, определяющим скорость распыления является





Околостуденческое

Рейтинг@Mail.ru

© 2009-2021, Список Литературы