Введение в дизайн фотошаблонов для изготовления микро- и наносистем. Synopsys CATS, Mentor Graphics Cadens MaskCompose
Автор:Аваков С.М. Год: 2016 Издание:Бином. Лаборатория знаний Страниц: [не указано] ISBN: 9785906828507 В книге представлены основы современных методов проектирования и подготовки управляющей информации для изготовления фотошаблонов с использованием специализированного программного обеспечения мировых лидеров в данной области — Cadence, Synopsys, Mentor...
