|
|
Автор: Jesse Russel
Год: 2012
Издание:
Книга по Требованию
Страниц: 101
ISBN: 9785513902591
High Quality Content by WIKIPEDIA articles! Atomic layer deposition (ALD) is a thin film deposition technique that is based on the sequential use of a gas phase chemical process. The majority of ALD reactions use two chemicals, typically called precursors. These precursors react with a surface one-at-a-time in a sequential manner. By exposing the precursors to the growth surface repeatedly, a thin film is deposited. Данное издание представляет собой компиляцию сведений, находящихся в свободном доступе в среде Интернет в целом, и в информационном сетевом ресурсе "Википедия" в частности. Собранная по частотным запросам указанной тематики, данная компиляция построена по принципу подбора близких информационных ссылок, не имеет самостоятельного сюжета, не содержит никаких аналитических материалов, выводов, оценок морального, этического, политического, религиозного и мировоззренческого характера в отношении главной тематики, представляя собой исключительно фактологический материал.
|
|
