Автор:Гришин, В.М.; Каминский, В.В.; Кумарев, Ф.А.и др. Год: 1975 Издание:
ЦНИИ Электроника Страниц: 44 ISBN: [не указан] Обзор состоит из двух глав. В первой приведен анализ дозаторов, используемых в технологии микроэлектроники при получении парогазовых смесей для диффузии и эпитаксии. Обсуждаются преимущества и недостатки дозаторов. Во второй глава рассмотрены особенности применения резистивного нагрева при получении эпитаксиальных слоев полупроводниковых материалов. Сопоставляются различные системы организации газовых потоков в реакционных камерах и конструктивное оформление нагревателей-подложкодержателе й.