В книге рассматривается комплекс вопросов, связанных с влиянием различных загрязнений на качество кремниевых полупроводниковых приборов и интегральных схем при производстве их по эпитаксиально-планарной технологии. Изложены требования к условиям производства и технологическим средам. Подробно описаны способы обеспечения и контроля чистоты технологических сред и поверхностей изделий при производстве полупроводниковых приборов и интегральных схем.
